テーマ:ワイドバンドギャップ半導体

次々世代パワー半導体AlNのトランジスタ動作に成功-日本電信電話(NTT)

 「電力損失がSiの20分の1、NTTが次々世代パワー半導体AlNのトランジスタ動作に成功」(MONOist 4/25(月) 7:40配信)には、  「日本電信電話(NTT)は2022年4月22日、SiC(炭化シリコン)やGaN(窒化ガリウム)を上回る次々世代パワー半導体材料として期待されるAlN(窒化アルミニウム)を用いたトラン…
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